抛光和研磨在磨料和研具材料的选择上不同。抛光通常使用的是1μm 以下的微细磨粒，抛光盘用沥青、石蜡、合成树脂、人造革和锡等软质金属或非金属材料制成。在抛光过程中,除机械切削作用外，加工氛围的化学反应起了重要作用。而研磨使用比较硬的金属盘作研具,材料的破坏以微小破碎为主。不锈钢电解抛光技术并不是大家想象中的或是在网上查些资料就能抛光加工出漂亮产品那么简单的。
抛光属于用微细磨粒进行的切削加工,因此抛光过程会产生微小的划痕，生成细微的切屑;磨粒与抛光盘对工件有摩擦作用，使得接触点温度上升，工件表面产生塑性流动,形成凹凸不平的光滑表面;抛光剂中的脂肪酸在高温下会产生化学反应,从工件金属表面溶析出金属皂，它是一种易于切除的化合物，起着化学洗涤作用,使工件表面平坦光滑;加工环境中由于尘埃、异物的混人也会产生机械作用。由于这些作用的重叠，以及抛光液、磨粒及抛光盘的力学作用，使得工件表面平滑化。采用工件、磨粒、抛光盘和加工液的不同组合，可实现不同的抛光效果。工件与抛光液、磨料及抛光盘之间的化学反应有助于抛光加工。先开始的技术还是平面抛光技术，因为市场对平板玻璃的需求，激发了玻璃平面抛光机的产生。
与石材磨抛相关的环节和工艺可分为工厂磨抛和维护磨抛，或者大磨抛和小磨抛。在工厂这个环节里既有大磨抛也有小磨抛。这个环节对石材进行的初始研磨和抛光都是在自动化和化较高的大型设备条件下进行的，所以我们称之大抛光。一般来说这种条件下石材得到的光泽。当然，受到一些因素的制约，在工厂里也会使用一些小型的设备和工具对石材进行打磨抛光，我们称之小抛光。例如，板材破损的修补，异形的处理，线条的处理等。维护磨抛，是指在石材后期安装和应用过程中对石材光泽进行再处理。例如，安装现场石材破损的修补，平整度的处理，划伤和磨损的处理，石材的翻新处理和光泽保持。所以排刀间隙不能选取太小，另外排刀前要检查刀具侧面是否有破损或不平整。由于受到环境等因素制约，这个环节对石材光泽的处理主要是依赖于一些小型设备和工具甚至于完全靠手工完成，这些都属于小磨抛。由于小磨抛所使用的设备和材料限制，磨抛后得到的光泽程度也是较低的，所以我们会经常见到人们对石材再抛光后光泽下降和不均匀的抱怨。
拋光膜用松香柏油或毛毡等材料制作， 由于抛光膜比较柔软， 加工后的表面粗糙度小、 表面缺陷小，可以加工较等级的零件。在古典拋光过程中，抛光膜的表面的形状容易变化， 需要随时进行修整， 这就要求作业人员有较高操作技能， 必须经过长期的培训才能掌握， 而且生产效率低。在少量和小批量加工中， 它有很大的优点，对于抛光机的精度要求低， 抛光模的代用率较高，设备、工装夹具的投入费用小。目前中等精度以下大批量生产的光学零件普遍都采用高速拋光的方法进行加工， 高速拋光是以高主轴转速、 大压力来提高拋光的效率。由于使用砂带，具有广泛的粒度范围选择，所以既可以选用粗粒度砂带加工出粗犷的、有明显的手感线纹，也可以选用细粒度砂带而加工出较为细腻的丝纹。高速拋光机所使用的设备以准球心的方法设计的（另外还有一些是假准球心式拋光机， 又有用平摆式拋光机用气压增加压力的方法充当高速拋光机） ，所谓准球心，是在拋光过程中负荷的压力始终指向被加工球面的球心位置。
折弯就是将2D的平板件，折成功D的零件。其加工需要有折床及相应折弯模具完成，它也有一定折弯顺序，其原则是对下一刀不产生干涉的先折，会产生干涉的后折。
折弯条数：T=3.0mm以下6倍板厚计算槽宽，如：T=1.0、V=6.0F=1.8、 T=1.2、V=8、F=2.2、T=1.5、V=10、F=2.7、T=2.0、V=12、F=4.0
折床模具分类：铝板折弯时，有裂纹，可增加下模槽宽式增加上模R(退火可避免裂纹
折弯时注意事项：Ⅰ图面，要求板材厚度，数量;Ⅱ折弯方向，Ⅲ折弯角度;Ⅳ折弯尺寸;Ⅵ外观、电镀铬化料件不许有折痕。折弯与压铆工序关系，一般情况下先压铆后折弯，但有料件压铆后会干涉就要先折后压，又有些需折弯—压铆—再折弯等工序。
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